真空高頻感應熔煉爐

發(fā)布時間: 2025-05-29 00:55:35    瀏覽次數(shù):252

此設備是一款精簡版高真空感應熔煉&鑄造爐,可熔煉各種合金,最大熔煉量可達1kg(Fe密度算),最高熔煉溫度可以達到2000℃,配有二次加料機構(gòu),可在真空或氣氛保護環(huán)境下進行二次加料??砂惭b高溫攪拌機構(gòu),可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進行高溫攪拌,使熔煉更加均勻。真空度可達10-3Pa(采用分子泵系統(tǒng))。


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設備特點:

1、可在保護氣氛下進行金屬熔煉和鑄造

2、最大熔煉量可達1kg(Fe密度算)

3、帶有手動澆注功能,可在真空或氣氛保護環(huán)境下對樣品進行澆注

4、配有二次加料機構(gòu),可在真空或氣氛保護環(huán)境下進行二次加料

5、可安裝高溫攪拌機構(gòu),可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進行高溫攪拌,使熔煉更加均勻

設備型號

VAHP2000-1KGTIDFY50L

源規(guī)格

15KW   380V

二次加料機構(gòu)

可實現(xiàn)三種不同材料依次加入到母液中

感應線圈

Φ107*Φ92*84mm/Φ79*Φ62*72mm

石墨坩堝

Φ75*Φ59.5*105mm/Φ47*Φ35*88.5mm

氧化鋁護套

Φ88xΦ78x105mm/Φ58xΦ50x88.5mm

二次加料機構(gòu)

可實現(xiàn)三種不同材料依次加入到母液中

感應線圈

Φ107*Φ92*84mm/Φ79*Φ62*72mm

石墨坩堝

Φ75*Φ59.5*105mm

真空泵

VRD-8

溫控系統(tǒng)(選配)

(儀表控溫)

熱電偶(選配)

K型(400-1200度)/B型(800-1600度)/Φ58xΦ50x88.5mm/C型(800-1600度)

機械攪拌機構(gòu)(含控制系統(tǒng),含BN攪拌槳)(選配)

攪拌槳可上下升降

攪拌槳材質(zhì):BN

轉(zhuǎn)速:0-200RPM(可調(diào))

氮化硼槳(選配)

水冷銅模(選配)

標準規(guī)格:Φ25x80、Φ30x80、30x30x80、50x25x80(可定制規(guī)格)

水冷設備(選配)

CW-6200系列

真空系統(tǒng)(選配)

NBD-103(B)分子泵系統(tǒng)

高溫攪拌機構(gòu)

溫度控制系統(tǒng)

(選配)

1、溫攪拌機構(gòu),可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進行高溫攪拌,使熔煉更加均勻

2、拌槳材質(zhì):氮化硼

3、轉(zhuǎn)速:0-200rpm(可調(diào))

4、可選配熱電偶嵌入在石墨坩堝壁內(nèi),用于測量和控制熔煉溫度,最高可測量溫度為2000℃

5、采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設置30段溫度段

6、溫速率:室溫~1000℃(1℃/秒)1000~1600℃(0.5℃/秒)控溫精度可達:±3℃

控制系統(tǒng)


1、燒結(jié)工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結(jié)可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;

2可預約燒結(jié),實現(xiàn)無人值守燒結(jié)工藝曲線燒結(jié);

3實時顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導出實現(xiàn)無紙記錄;

4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進行非線性修正。

氣氛保護

1、此爐體設計可通入高純Ar氣,氣壓可達0.02MPa

設備上安裝有機械壓力表測試范圍為-0.1MPa-0.15MPa

設備上安裝有浮子流量計(0.2-2L/min),用于調(diào)節(jié)進氣流量

真空度:1Pa(采用機械泵),10-3Pa(采用分子泵系統(tǒng))

標配含機械泵

水冷設備

設備中需要>58L/min的水冷機進行水冷(標配中不含水冷機,可在本司選購)

服務與支持

一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如處理管和O形圈,請在下面的相關產(chǎn)品處訂購更換件)。

主要應用領域

  1. 新材料研究
    • 高性能合金:用于制備高溫合金、耐腐蝕合金等高性能材料,滿足航空航天、核能等領域的嚴格要求。
    • 稀土金屬:適用于稀土金屬及其化合物的熔煉和提純,如釹鐵硼永磁材料等。
    • 納米材料:支持納米級金屬粉末的合成,促進新型催化劑、傳感器材料的研發(fā)。
  2. 冶金工業(yè)
    • 精煉提純:在真空條件下去除金屬中的雜質(zhì)和氣體,提高金屬純度,適用于鈦、鉬等難熔金屬的精煉。
    • 合金配方優(yōu)化:通過精確控制熔煉條件,探索新的合金配方,提升材料性能。
  3. 電子與半導體
    • 芯片制造:為半導體行業(yè)提供高純度金屬靶材,支持集成電路制造工藝。
    • 電子元件封裝:用于焊接后的助焊劑殘留物去除,確保電子元件的質(zhì)量和可靠性。
  4. 能源領域
    • 電池材料:生產(chǎn)高性能電池材料(如鋰離子電池正負極材料),要求在無氧環(huán)境下進行高溫處理。
    • 太陽能電池:用于制備太陽能電池所需的高純度硅材料,提高光電轉(zhuǎn)換效率。
  5. 化學工程
    • 催化劑制備:利用多溫區(qū)梯度加熱技術制備高性能催化劑,優(yōu)化其催化活性和選擇性。
    • 化學反應研究:研究高溫條件下的化學反應動力學和機理,特別是在腐蝕性氣體環(huán)境中。
  6. 科研實驗
    • 高校與研究所:為研究人員提供可靠的實驗平臺,支持新材料、新工藝的研究與開發(fā)。
    • 實驗室小規(guī)模生產(chǎn):適用于實驗室內(nèi)的小批量樣品制備,滿足教學和科研需求。
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