高溫旋轉擺振CVD系統(tǒng)
發(fā)布時間： 2023-06-09 22:30:41 瀏覽次數(shù)：1723
設備簡介：
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學等領域。
| 設備特點： 1、低真空、高真空、氣氛燒結均可。 2、控制穩(wěn)定可靠，操作方便，安全防護措施完善。 3、采用先進的PID自學習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。 4、高低溫區(qū)采用物理隔離，可分別設置工藝曲線。 5、兼具旋轉擺振功能，可更好滿足客戶需求。 6、爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料，保溫效果更好，節(jié)能降耗。 7、具有物聯(lián)網(wǎng)功能（WIFI），可通過手機、電腦遠程對設備進行監(jiān)控，操作。 8、數(shù)據(jù)存儲功能，可保存燒結的重要參數(shù)，時長達30天之久（每天開機8小時）。 9、配方功能，可預存配方100條以上。 10、多重防呆功能，讓客戶使用起來更加安全。 11、聯(lián)網(wǎng)功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協(xié)議，可以讓系統(tǒng)與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。 | ||||||
產(chǎn)品型號 | NBD-RT1700-120T2DY | ||||||
供電電源 | 三相380V 50HZ | ||||||
額定功率 | 15KW | ||||||
測溫元件類型 | B型熱電偶 150mm | ||||||
低溫區(qū)最高溫度 | 1400℃ | ||||||
高溫區(qū)最高溫度 | 1600℃ | ||||||
加熱溫區(qū)尺寸 | 長660×深220×高160mm | ||||||
爐體尺寸 | 長1200mm×高1260mm（不含點火器）×深760mm | ||||||
最高真空度 | 1*10-1Pa | ||||||
最大擺動角度 | -18° | ||||||
最小擺動角度 | 4° | ||||||
爐管最大轉速 | 14r/min | ||||||
爐體尺寸 | 長2650×深1050×高1450mm | ||||||
推薦升溫速率 | 5℃/min（剛玉管不宜急冷急熱） | ||||||
設備細節(jié) |  | ||||||
控制系統(tǒng) |
| 1. NBD-101PE嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式； 2. 帶壓力保護控制， 3. 燒結工藝曲線設置：動態(tài)顯示設置曲線，設備燒結可預存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設置； 4. 可預約燒結，實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結； 5. 實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數(shù)據(jù)，并可導出實現(xiàn)無紙記錄； 6. 具有實現(xiàn)遠程操控，實時觀測設備狀態(tài)； 7. 溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進行非線性修正； 預留留485接口支持MODBUS協(xié)議，客戶可遠程實現(xiàn)電腦采集燒成溫度; | |||||
溫度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制畫面 |  | ||||||
重量 | 約600KG | ||||||
服務支持 | 1年質保，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如爐管和O形圈等） | ||||||
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