高溫PECVD系統(tǒng)
發(fā)布時(shí)間: 2023-08-24 08:11:42 瀏覽次數(shù):2290
設(shè)備簡介:
PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜生長的一種制備技術(shù),主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積;高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理,可以實(shí)現(xiàn)高溫?zé)Y(jié),適用于大多數(shù)材料的熱處理以及熔煉工藝,整體采用國際先進(jìn)制造工藝,并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā),根據(jù)人體安全的角度進(jìn)行設(shè)計(jì)。它采用PLC控制,觸摸屏操作。
主要特點(diǎn): 1、高溫?zé)Y(jié)。 2、控制穩(wěn)定可靠,操作方便,安全防護(hù)措施完善。 3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。 4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。 5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過手機(jī)、電腦遠(yuǎn)程對設(shè)備進(jìn)行監(jiān)控,操作。 6、數(shù)據(jù)存儲功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長達(dá)30天之久(每天開機(jī)8小時(shí))。 7、配方功能,可預(yù)存配方20條以上。 8、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。 | ||||
型號 | NBD-PECVD1500-80TID3ZY | |||
供電電源 | 單相220V 50HZ | |||
控溫精度 | ±1℃ | |||
觸摸屏尺寸 | 7" | |||
射頻頻率 | 13.56MHz | |||
射頻功率輸出范圍 | 0-500W | |||
沉積加熱額定功率 | 3KW | |||
傳感器類型 | S 型φ8*180mm | |||
沉積最高溫度 | 1500℃ | |||
沉積額定溫度 | 1450℃ | |||
推薦升溫速率 | ≤5℃/min | |||
爐管材質(zhì)及規(guī)格 | 剛玉Φ80*1200mm 外徑*長度(厚度) | |||
沉積管徑 | Φ80mm*1200mm | |||
爐膛尺寸 | 單個(gè)溫區(qū)長175*高160*深140mm | |||
PECVD外形尺寸 | 長1500×高1350×深830mm | |||
氣氛條件 | 混合氣、真空等 | |||
滑動方式 | 電機(jī)驅(qū)動同步帶 | |||
電機(jī)轉(zhuǎn)速 | 3-4轉(zhuǎn)每分鐘 | |||
一轉(zhuǎn)行程 | 114mm | |||
推拉最大行程 | 340mm 爐膛中心到線圈中心的距離 | |||
機(jī)械泵抽氣速率 | 5m3/h | |||
爐腔極限真空度 | 3~5Pa | |||
重量 | 約240KG | |||
設(shè)備細(xì)節(jié) | ||||
流程控制畫面 | ||||
控制系統(tǒng) | 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置; 2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié); 3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無紙記錄; 4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測設(shè)備狀態(tài); 5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。 | |||
重量 | 約240KG | |||
設(shè)備使用注意事項(xiàng) | 1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態(tài),一般功率需達(dá)到50W以上才能匹配; | |||
服務(wù)支持 | 一年有限保修,提供終身支持; |
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