高溫PECVD系統(tǒng)

發(fā)布時(shí)間: 2023-08-24 08:11:42    瀏覽次數(shù):2290

設(shè)備簡介:

PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜生長的一種制備技術(shù),主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積;高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理,可以實(shí)現(xiàn)高溫?zé)Y(jié),適用于大多數(shù)材料的熱處理以及熔煉工藝,整體采用國際先進(jìn)制造工藝,并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā),根據(jù)人體安全的角度進(jìn)行設(shè)計(jì)。它采用PLC控制,觸摸屏操作。

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主要特點(diǎn):

1、高溫?zé)Y(jié)。

2、控制穩(wěn)定可靠,操作方便,安全防護(hù)措施完善。

3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。

4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。

5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過手機(jī)、電腦遠(yuǎn)程對設(shè)備進(jìn)行監(jiān)控,操作。

6、數(shù)據(jù)存儲功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長達(dá)30天之久(每天開機(jī)8小時(shí))。

7、配方功能,可預(yù)存配方20條以上。

8、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。

型號

NBD-PECVD1500-80TID3ZY

供電電源

單相220V 50HZ

控溫精度

±1℃

觸摸屏尺寸

7"

射頻頻率

13.56MHz

射頻功率輸出范圍

0-500W

沉積加熱額定功率

3KW

傳感器類型

S 型φ8*180mm

沉積最高溫度

1500℃
沉積額定溫度

1450℃

推薦升溫速率

≤5℃/min

爐管材質(zhì)及規(guī)格

剛玉Φ80*1200mm 外徑*長度(厚度)
沉積管徑

Φ80mm*1200mm

爐膛尺寸

單個(gè)溫區(qū)長175*高160*深140mm
PECVD外形尺寸

長1500×高1350×深830mm

氣氛條件

混合氣、真空等

滑動方式

電機(jī)驅(qū)動同步帶

電機(jī)轉(zhuǎn)速

3-4轉(zhuǎn)每分鐘

一轉(zhuǎn)行程

114mm

推拉最大行程

340mm 爐膛中心到線圈中心的距離
機(jī)械泵抽氣速率

5m3/h

爐腔極限真空度

3~5Pa

重量

約240KG

設(shè)備細(xì)節(jié)

流程控制畫面


控制系統(tǒng)


1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;

2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);

3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無紙記錄;

4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測設(shè)備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。

重量

約240KG

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態(tài),一般功率需達(dá)到50W以上才能匹配;
2. 若采用手動匹配,將功率設(shè)到60W左右,手動調(diào)諧匹配合適時(shí),再增加功率
3. 工作時(shí),需改變腔體的氣流量,先要要把功率設(shè)置為零,不能直接按“OFF”按鍵關(guān)閉射頻輸出。

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持;


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