五溫區(qū)CVD一體機
發(fā)布時間: 2023-11-10 18:29:11 瀏覽次數(shù):1240
設(shè)備簡介:
化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學(xué)等領(lǐng)域;
CVD系統(tǒng)一體爐,供氣和真空系統(tǒng)靈活組合,滿足各類薄膜沉積,在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛。包括沉積大面積的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。諾巴迪成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域。設(shè)備特點: 1、控制穩(wěn)定可靠,操作方便。 2、采用先進的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。 3、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。 4、數(shù)據(jù)存儲功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時長達30天之久(每天開機8小時)。 5、配方功能,可預(yù)存配方100條以上。 6、五個溫區(qū)獨立控制,使客戶燒結(jié)工藝更加復(fù)雜多樣。 7、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機相連(上位機需安裝相應(yīng)軟件)。 | |||||||
產(chǎn)品型號 | NBD-T1200-100T5G4F | ||||||
供電電源 | 三相380V 50HZ | ||||||
額定功率 | 10KW | ||||||
測溫元件類型 | K型熱電偶 200mm | ||||||
最高溫度 | 1150℃ | ||||||
加熱溫區(qū)尺寸 | Φ150*1135mm | ||||||
爐管尺寸 | Φ100*1600mm | ||||||
爐體尺寸 | 長1900*高1250*深900mm | ||||||
推薦升溫速率 | 10℃/min | ||||||
重量 | 350kg | ||||||
設(shè)備細節(jié) | ![]() | ||||||
控制系統(tǒng) | 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置; | ||||||
溫度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制畫面 | ![]() | ||||||
服務(wù)支持 | 1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和O形圈等) |
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